美國需在芯片發(fā)展上下大力氣,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟及行業(yè)研究公司提出建議
戰(zhàn)略性先進電子材料重點專項—“面向下一代移動通訊的GaN基射頻器件關(guān)鍵技術(shù)及系統(tǒng)應(yīng)用”項目啟動會在深圳召開
2016年國家重點研發(fā)計劃戰(zhàn)略性先進電子材料重點專項—“第三代半導(dǎo)體紫外探測材料及器件關(guān)鍵技術(shù)”項目啟動會在南京大學(xué)召開...
【IFWS 2016】Won-Jae LEE: 韓國SiC相關(guān)研究小組的最近研發(fā)現(xiàn)狀
【IFWS 2016】馮哲川: n + 4H SiC上的同質(zhì)外延4H-SiC薄膜和深紫外-紫外-可見光的光譜特性
2016年11月14日,第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟第二次會員大會在北京中奧凱富國際酒店召開。
11月15日,在科學(xué)技術(shù)部火炬高技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)中心、北京市科學(xué)技術(shù)委員會、廣東省科學(xué)技術(shù)廳的指導(dǎo)和支持下,第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)...
【IFWS 2016】劉揚: 基于選區(qū)外延技術(shù)制備具有高質(zhì)量MOS界面的Si襯底上凹槽柵增強型GaN基MOSFET
【IFWS 2016】陳敬: 詳解氮化鎵功率器件MIS門結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性和可靠性
【IFWS 2016】江川孝志: 200毫米硅襯底AlGaN/GaN基HEMT的異質(zhì)外延生長和器件特征
【IFWS 2016】Mark Mackee: 單晶反應(yīng)腔技術(shù)到電力電子大批量制造的GaN-Si MOCVD
【IFWS 2016】yuhao zhang: 電力電子采用的低成本高性能的垂直GaN二極管和晶體管
【IFWS 2016】北京市科委雙新處副處長王紅梅: 北京高度重視第三代半導(dǎo)體技術(shù)和產(chǎn)業(yè)的發(fā)展
【SSLCHINA 2016】孔月嬋:fT > 260 GHz時高性能超薄第四組InAlGaN勢壘HEMT器件
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