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美國需在芯片發(fā)展上下大力氣,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟及行業(yè)研究公司提出建議

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戰(zhàn)略性先進電子材料重點專項—“面向下一代移動通訊的GaN基射頻器件關(guān)鍵技術(shù)及系統(tǒng)應(yīng)用”項目啟動會在深圳召開

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戰(zhàn)略性先進電子材料重點專項—“第三代半導(dǎo)體紫外探測材料及器件關(guān)鍵技術(shù)”項目啟動會在南京召開

2016年國家重點研發(fā)計劃戰(zhàn)略性先進電子材料重點專項—“第三代半導(dǎo)體紫外探測材料及器件關(guān)鍵技術(shù)”項目啟動會在南京大學(xué)召開...

【IFWS 2016】Won-Jae LEE: 韓國SiC相關(guān)研究小組的最近研發(fā)現(xiàn)狀

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【IFWS 2016】馮哲川: n + 4H SiC上的同質(zhì)外延4H-SiC薄膜和深紫外-紫外-可見光的光譜特性

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第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟第二次會員大會在京圓滿召開

2016年11月14日,第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟第二次會員大會在北京中奧凱富國際酒店召開。

【IFWS 2016】山東大學(xué)教授徐現(xiàn)剛: 橫向生長的碳化硅晶體位錯減少

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首屆國際第三代半導(dǎo)體創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)大賽圓滿收官

11月15日,在科學(xué)技術(shù)部火炬高技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)中心、北京市科學(xué)技術(shù)委員會、廣東省科學(xué)技術(shù)廳的指導(dǎo)和支持下,第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)...

【IFWS 2016】劉揚: 基于選區(qū)外延技術(shù)制備具有高質(zhì)量MOS界面的Si襯底上凹槽柵增強型GaN基MOSFET

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【IFWS 2016】Marianne GERMAIN:大直徑硅外延片上的氮化鎵高效率的功率切換

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【IFWS 2016】陳敬: 詳解氮化鎵功率器件MIS門結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性和可靠性

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【IFWS 2016】江川孝志: 200毫米硅襯底AlGaN/GaN基HEMT的異質(zhì)外延生長和器件特征

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【IFWS 2016】程凱: 電力電子應(yīng)用的硅基氮化鎵平臺

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【IFWS 2016】張翼: La2O3/SiO2鈍化和銅金屬化的氮化鎵增強型HEMT器件

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【IFWS 2016】Mark Mackee: 單晶反應(yīng)腔技術(shù)到電力電子規(guī)模制造的GaN-Si MOCVD

【IFWS 2016】Mark Mackee: 單晶反應(yīng)腔技術(shù)到電力電子大批量制造的GaN-Si MOCVD

【IFWS 2016】yuhao zhang: 電力電子采用的低成本高性能的垂直GaN二極管和晶體管

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【IFWS 2016】Fred C. LEE: GaN引領(lǐng)產(chǎn)業(yè)變革

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【IFWS 2016】北京市科委雙新處副處長王紅梅: 北京高度重視第三代半導(dǎo)體技術(shù)和產(chǎn)業(yè)的發(fā)展

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【IFWS 2016】孔月嬋:fT > 260 GHz時高性能超薄第四組InAlGaN勢壘HEMT器件

【SSLCHINA 2016】孔月嬋:fT > 260 GHz時高性能超薄第四組InAlGaN勢壘HEMT器件

【IFWS 2016】呂元杰: 采用凹柵工藝提升AlGaN/GaN HFETs器件性能

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