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韓國研究團(tuán)隊(duì)開發(fā)出超高分辨率OLED微型顯示技術(shù)

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2025-02-21 瀏覽次數(shù):248

由西江大學(xué)化工生命工學(xué)系姜文晟教授、延世大學(xué)趙正浩教授、漢陽大學(xué)金道煥教授組成的聯(lián)合研究團(tuán)隊(duì),于1月27日在《自然·電子學(xué)》(Nature Electronics)在線版上發(fā)表了超高分辨率OLED微型顯示器(Micro Display)的核心技術(shù),該技術(shù)可在高密度像素環(huán)境下實(shí)現(xiàn)無信號(hào)干擾的清晰畫質(zhì)。

隨著利用增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)技術(shù)的沉浸式內(nèi)容需求不斷增加,開發(fā)能夠提供類似真實(shí)視覺信息,傳遞即時(shí)沉浸感的OLED微型顯示器變得十分必要。然而,隨著分辨率的提高,像素間距縮小至幾微米,出現(xiàn)了電信號(hào)干擾,以及色彩范圍和色純度降低的問題。

為解決這一問題,精細(xì)地對像素間共享的空穴傳輸層進(jìn)行圖案化,以阻斷流向相鄰像素的漏電流至關(guān)重要。但目前廣泛使用的小分子有機(jī)半導(dǎo)體,在實(shí)現(xiàn)高密度像素方面一直是個(gè)未解決的難題。研究團(tuán)隊(duì)開發(fā)出了可實(shí)現(xiàn)10000ppi以上超精細(xì)圖案的有機(jī)半導(dǎo)體空穴傳輸材料,成功在高密度像素環(huán)境下實(shí)現(xiàn)了無信號(hào)干擾的高分辨率OLED元件。

研究人員利用基于硅(Si)半導(dǎo)體各向異性蝕刻的光刻工藝,開發(fā)出了一種技術(shù),通過引入硅分子的交聯(lián)空穴傳輸層,在大尺寸晶圓(6英寸)上也能實(shí)現(xiàn)微米級精度的超高分辨率像素。通過這項(xiàng)技術(shù),研究團(tuán)隊(duì)證明了在高分辨率OLED像素陣列中,由電信號(hào)干擾導(dǎo)致的相鄰像素發(fā)光現(xiàn)象得到了抑制。

此外,通過引入硅分子,能夠控制有機(jī)半導(dǎo)體基空穴傳輸層的能級和空穴傳輸速度,從而提高了OLED的發(fā)光效率。此次研究成果在大幅改善了現(xiàn)有的微型顯示器材料及圖案工藝無法解決的像素干擾現(xiàn)象方面,具有重大意義。預(yù)計(jì)這將拓展并加速高分辨率微型顯示器在構(gòu)建超真實(shí)感增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)方面的應(yīng)用可能性。

此外,本研究由韓國科學(xué)技術(shù)信息通信部和韓國研究財(cái)團(tuán)資助的中堅(jiān)研究項(xiàng)目、全球前沿研究中心、STEAM研究項(xiàng)目以及納米及材料技術(shù)開發(fā)項(xiàng)目支持完成。

 (來源:CINNO)

 

 
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