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蘇州漢驊半導(dǎo)體取得深紫外 LED 芯片及其制備方法專利,提高 UVC 光的出光效率

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2024-09-16 瀏覽次數(shù):237

天眼查知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息顯示,蘇州漢驊半導(dǎo)體有限公司取得一項(xiàng)名為“深紫外 LED 芯片及其制備方法“,授權(quán)公告號(hào) CN115566118B ,申請(qǐng)日期為 2022 年 10 月。

專利摘要顯示,本發(fā)明公開了一種深紫外 LED 芯片及其制備方法,包括:外延結(jié)構(gòu),所述外延結(jié)構(gòu)包括依次堆疊設(shè)置的襯底、N 型層、有源發(fā)光層、P 型層和 P 型接觸層,所述 P 型層為光反射性的 P 型層,所述外延結(jié)構(gòu)形成有自所述 P 型接觸層延伸至所述 N 型層的通孔,所述外延結(jié)構(gòu)還包括覆蓋所述通孔側(cè)壁的絕緣介質(zhì)層和覆蓋至少部分所述絕緣介質(zhì)層的第一導(dǎo)電層,所述第一導(dǎo)電層電連接所述通孔底部的所述 N 型層;所述外延結(jié)構(gòu)還包括 N 型電極和 P 型電極,所述 N 型電極電連接所述第一導(dǎo)電層,所述 P 型電極電連接所述 P 型接觸層;基板,所述外延結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述基板上,且所述襯底背向所述基板。通過采用倒裝芯片設(shè)計(jì),高反射電極可以進(jìn)一步提高 UVC 光的出光效率。

 

 
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