知識產權機構韓國特許廳10月31日宣布，將從11月1日起將國內研究、開發或生產的顯示領域的專利申請指定為優先審查對象，為期一年。具體對象包括與顯示材料、部件、設備，制造、設計技術直接相關的申請，以及韓國國內生產或準備生產顯示相關產品、設備等企業的申請，和與顯示技術相關的國家研究開發項目成果相關的申請等。

特許廳預計，通過這個制度，原本平均需要16個月才能開始的一般專利審查周期，將縮短至平均2個月內。與此同時，在10月31日結束的半導體領域的申請優先審查對象指定，也將延長一年。如果申請與半導體材料、部件、設備，制造、設計技術直接相關的專利，也將能夠接受優先審查。

此外，考慮到在申請優先審查時，很多情況下很難預測專利分類（CPC）是否符合條件，因此將刪除與現有半導體相關的專利分類要求。據悉，這一措施是為了支持韓國企業在國際顯示領域專利爭端日益加劇的情況下，快速獲得專利而實施的。

（來源：集微）