近日，納晶科技全球首發(fā)最高分辨率（300PPi）的噴墨打印主動式矩陣量子點發(fā)光二極管（AM-QLED）顯示屏，這意味著納晶AM-QLED技術量產(chǎn)進程又邁出了里程碑式的一步。

傳統(tǒng)量子點背光技術是用量子點材料制成量子點膜或量子點擴散板來賦能液晶產(chǎn)品實現(xiàn)色域的提升。與之不同的是，AMQLED顯示屏基于量子點“電致發(fā)光”原理，采用了新型氧化物TFT和噴墨打印技術，頂發(fā)射器件結構，無需背光源，實現(xiàn)真正的“主動式量子點自發(fā)光全彩顯示”。

量子點材料，是尺寸在1 nm-100 nm之間，具有“量子限域效應”的半導體納米晶。它具有可溶液加工、化學/光學/電光穩(wěn)定性優(yōu)異、發(fā)光峰位隨尺寸可調(diào)、熒光光譜窄、熒光量子產(chǎn)率高等一系列優(yōu)異的特點。將其應用于顯示領域時，展現(xiàn)出色域廣（完美適配BT2020的標準）、響應速度快（微秒級）、驅(qū)動電壓低（功耗低）等各類優(yōu)秀的特性。

近年來，噴墨打印技術一直受限于分辨率的問題難以應用于中小尺寸。使用噴墨打印制備高分辨率產(chǎn)品具備極大的挑戰(zhàn)，需要解決各種潛在的問題，例如打印精度相對較低、像素間串色、成膜均勻性差等多項技術難題。為了攻克這一難關，納晶光電研發(fā)團隊通過獨特的像素設計在保證高分辨的打印同時降低了對打印精度的要求，并通過優(yōu)化打印工藝解決串色問題，同時調(diào)配適合打印的墨水配方及優(yōu)化干燥工藝解決成膜均勻性的問題。最終，在兩條試驗線的基礎上，采用氧化物TFT背板，制備出目前噴墨打印最高分辨率（300PPi）的AM-QLED DEMO，顯示峰值亮度達到1000nit，色域超過110% NTSC。

納晶科技長期堅持科技創(chuàng)新，繼自主研發(fā)100ppi、150ppi等多款電致發(fā)光AMQLED顯示屏后，再一次引領了量子點顯示的行業(yè)技術發(fā)展方向，300ppi噴墨打印 AMQLED 顯示樣機的行業(yè)首發(fā)，標志著納晶AMQLED技術在打印工藝端的產(chǎn)業(yè)化工藝驗證逐步走向成熟，進一步助力中國顯示實現(xiàn)引領的跨越式發(fā)展。

值得一提的是，使用納晶量子點制備的QLED，藍綠光QLED效率為目前已知公開報道最高水平，綠光QLED EQE達到28.7%，藍光QLED EQE達到21.9%，綠光QLED壽命達到了T95 200h@10000nit。同時，納晶還布局了光刻工藝技術路線，未來可實現(xiàn)在顯示領域的全尺寸覆蓋。據(jù)悉，“十三五”顯示方向總體實現(xiàn)突破印刷OLED/QLED/電子紙發(fā)光與顯示材料、印刷TFT材料與器件的關鍵共性技術，而十四五期間將要實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化，納晶參與了國家十三五/十四五重點研發(fā)計劃，其中十三五項目獲得A級評定，預期在十四五期間建設全球首條具有量產(chǎn)能力的AM-QLED印刷顯示示范線。

中國雖已是全球最大的顯示行業(yè)的供應基地，但距離“顯示強國”目標仍存在一定差距，其中最大瓶頸在于部分關鍵性材料和裝備仍然依賴進口。特別是面對國際顯示產(chǎn)業(yè)競爭日趨激烈當下，對中國整個顯示產(chǎn)業(yè)鏈、供應鏈也敲響了警鐘，對材料和設備的國產(chǎn)化、本地化的需求迫在眉睫，納晶在量子點新材料及電致發(fā)光QLED的重要進展，讓我們看到了中國顯示產(chǎn)業(yè)崛起的希望。

（來源：CINNO Research）