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重大進(jìn)展!我國在硅基MicroLED 產(chǎn)業(yè)化技術(shù)探索上取得系列突破

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2021-12-15 來源:中國半導(dǎo)體照明網(wǎng)瀏覽次數(shù):1507
 近日,第七屆國際第三代半導(dǎo)體論壇暨第十八屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇(IFWS & SSLCHINA 2021)在深圳會展中心舉行。本屆論壇由第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA)、國家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟(CSA)聯(lián)合主辦,北京麥肯橋新材料生產(chǎn)力促進(jìn)中心有限公司與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)共同承辦。
 
期間,由廣東中民工業(yè)技術(shù)創(chuàng)新研究院有限公司、中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司、佛山市國星光電股份有限公司、北京康美特科技股份有限公司共同協(xié)辦的”Mini/Micro-LED技術(shù)“分會如期舉行。
 閆春輝
Micro- LED因具有比傳統(tǒng)同類產(chǎn)品更好的色域、更高的效率和亮度、更多的靈活性和輕便性、更長的壽命和更低的功耗等有前途的特性而被廣泛認(rèn)為是下一代顯示技術(shù),Micro-LED技術(shù)的發(fā)展主要是由LED、LCD/OLED和集成電路(IC)技術(shù)的集成和發(fā)展驅(qū)動的。單片集成,也稱為晶圓級轉(zhuǎn)移,以及涉及質(zhì)量轉(zhuǎn)移的拾放技術(shù)是在面板上組裝微型LED的兩種典型方法。與受成本、良率和吞吐量影響的取放技術(shù)相比,單片集成提供了一種有前途的方法,可以實現(xiàn)具有成本效益、超高良率和超高分辨率的微型顯示器。先進(jìn)的集成電路技術(shù)方面,GaN-on-Si技術(shù)非常重要,它提供了一組獨特的有吸引力的特性,包括由經(jīng)濟的大尺寸高質(zhì)量硅襯底帶來的極低成本的潛力,與IC技術(shù)以及光電子集成的前景。
 
會上,廣東中民工業(yè)技術(shù)創(chuàng)新研究院有限公司常務(wù)副院長閆春輝博士帶來了“硅基氮化物Micro-LED性能提升和紅綠藍(lán)集成外延技術(shù)的實現(xiàn)”的主題報告。分享了近期在硅基MicroLED 產(chǎn)業(yè)化技術(shù)探索上取得的一系列重大進(jìn)展。
 
Si襯底上基于GaN的LED結(jié)構(gòu)的異質(zhì)外延總是遭受GaN和Si之間的晶格常數(shù)和熱膨脹系數(shù)的大不匹配,以及Ga到Si襯底的回熔蝕刻問題。通常采用AlN和AlGaN緩沖液來解決不匹配問題,借助對外延晶片的溫度、反射率和曲率的原位監(jiān)測。通過對應(yīng)變的精細(xì)控制和仔細(xì)調(diào)整,6英寸晶圓上的波長STD分別低至1.9 nm,8英寸晶圓上的STD分別低至3.2nm。報告中應(yīng)用了額外的特殊緩沖層,GaN外延層的穿透位錯密度從9.5×108cm-2降低到4.8×108cm-2。此外,專為微型LED設(shè)計的新型外延結(jié)構(gòu)可以在0.2A/cm2 的電流密度下將其壁插效率(WPE)提高28%。
 
此外,通過各向異性硅蝕刻工藝制造了從100μm到20μm的不同尺寸的獨立式 Micro-LED陣列。尺寸效應(yīng)的特征在于它們的電學(xué)、光學(xué)和熱學(xué)性質(zhì)。其研究團隊在Si襯底上破解了InGaN基紅色LED最后的可見光禁區(qū)。此外,還開發(fā)了一種與涉及顏色轉(zhuǎn)換層的方法完全不同的直接RGB發(fā)射Micro-LED 技術(shù)。其基于InGaN的紅色、綠色和藍(lán)色微型LED是通過“一步RGB形成”的先進(jìn)外延方法獲得的,全彩微型顯示器不涉及任何顏色轉(zhuǎn)換材料。這種直接RGB發(fā)射微型LED技術(shù)有望用于單片集成以實現(xiàn)各種全彩微型顯示器。
最后,閆春輝博士對上述硅基MicroLED 產(chǎn)業(yè)化技術(shù)研究工作歸納為三大重要進(jìn)展:一是在適合MicroLED 顯示的典型超小電流密度下(0.2A/cm2), 藍(lán)光LED的光效相對提升了65%, 開啟了大幅優(yōu)化MicroLED 光效的大門(見上圖)。
 
 
二是,在最具挑戰(zhàn)的氮化物紅光領(lǐng)域,把波長推進(jìn)到了近700nm的深紅色波段(見上圖),徹底打破了氮化物L(fēng)ED的最后的可見光禁區(qū),為進(jìn)一步拓展全光譜氮化物L(fēng)ED打下了重要基礎(chǔ)。
三是,在最期待的AR顯示領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了無需色轉(zhuǎn)化材料的全I(xiàn)nGaN的分區(qū)異構(gòu)外延達(dá)成的紅黃綠藍(lán)四色單片集成,為實現(xiàn)全氮化物RGB集成顯示邁出了關(guān)鍵一步。
 
嘉賓簡介:閆春輝博士,教授。納微朗科技(深圳)有限公司創(chuàng)始人,董事長;松山湖東莞中民研究院常務(wù)副院長;曾任深圳第三代半導(dǎo)體研究院首席科學(xué)家,南方科技大學(xué)電子與電氣工程系客座教授兼戰(zhàn)略指導(dǎo)委員會委員。歷任國星光電副總經(jīng)理;美國Invenlux Corporation 創(chuàng)始人和首席執(zhí)行官;美國載培科思公司首席技術(shù)官;美國AXT公司光電研發(fā)總監(jiān)。加州大學(xué)圣迭哥分校訪問研究員;美國內(nèi)布拉斯加大學(xué)電子工程博士。在半導(dǎo)體光電領(lǐng)域有30多年的研發(fā)與制造經(jīng)驗。發(fā)表論文40余篇,擁有半導(dǎo)體光電領(lǐng)域相關(guān)專利100余項。
 
1992年曾獲中科院科技進(jìn)步一等獎。國家級重點人才。2011嘉興南湖英才獎,和2011科技新浙商獲得者。2012中國LED行業(yè)優(yōu)秀科技人才獎12強(工信部)。2013年獲得國務(wù)院政府特殊津貼獎勵。2014年獲國家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)與產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟十年貢獻(xiàn)獎。2014浙報公益節(jié)能聯(lián)盟“節(jié)能大使”獎。領(lǐng)導(dǎo)團隊在最具挑戰(zhàn)的LED關(guān)鍵技術(shù)領(lǐng)域(如效率Droop,Green Gap,UV LED,超低電壓LED及大功率芯片設(shè)計等)均有世界領(lǐng)先的突破,大功率綠光芯片在2011年獲得全國LED產(chǎn)品大賽冠軍,改變了中國大功率LED芯片的市場競爭格局。
 
(內(nèi)容根據(jù)現(xiàn)場資料整理,如有出入敬請諒解)
 
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