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華燦光電張奕:新一代顯示用Mini/Micro LED芯片技術研究與展望

放大字體  縮小字體 發布日期:2021-05-27 來源:中國半導體照明網瀏覽次數:1035
近日,由半導體產業網、中國半導體照明網主辦的2021 Mini/Micro-LED顯示技術商業化應用論壇成功召開。論壇由第三代半導體產業技術創新戰略聯盟指導,與2021寧波國際照明展覽會&第三代半導體技術應用創新展同期舉辦。
 
論壇期間,華燦光電股份有限公司外延技術開發經理張奕博士分享了用于“顯示的新一代LED芯片技術研究與展望”主題報告,詳細分享了Mini/Micro LED應用與市場趨勢以及芯片技術的研究與展望。
華燦
LED自發光技術發展到現在,焦點多集中于Mini&Micro,LED自發光顯示微縮化的核心是Mini/Micro LED芯片。



 
 
Mini/Micro和其他顯示技術相比在對比度、響應時間、分辨率、視角、色域、亮度、功耗效率等方面都有比較明顯的優勢。
 
Mini LED RGB顯示技術作為小間距顯示屏的自然延伸,無論是下游應用還是工藝技術均可無縫銜接,有望為LED顯示屏注入新的源頭活水。P1.1以下的顯示屏應用,Mini LED 為主流芯片方案。
 
隨著LED顯示屏于娛樂、零售,遠程會議,教育、醫療、安防等市場需求增加,小間距、超小間距顯示屏景氣度持續向好。有研究顯示,全球LED小間距市場預估2019~2023年CAGR達27%,繼續保 持高速增長,未來幾年P1.1以下的產品將最具成長動能,預估 2019~2023 年的 CAGR 達58%,2023年市場規模預估將達到19.56億美元。
 
張奕認為Micro LED是超高清顯示的終極技術,Micro LED顯示將應用于電視、手機、AR/VR,車載顯示、可穿戴電子、數字顯示(商業廣告與顯示等),預估2024年在TV以及IT顯示器應用上,Micro LED 片量將有快速增長。2024年在TV應用上, Micro LED 芯片產值將達到21億美元。
 
背光應用是Mini LED產業化的另一重要推手,Mini LED背光顯示的優勢包括精細的Local Dimming可以實現超高對比度(1000000:1);RGB三色背光方案可實現寬色域,色彩的鮮艷度媲美OLED;減少光學混光距離(OD),降低屏幕厚度實現超薄化,在輕薄的便攜式消費電子中應用廣闊;散熱均勻,傳統分立LED器件方案無法做到的,可以實現高亮度(>1000nit),HDR成為可能。
Mini LED背光基本原理
 
高品質顯示要求精細的Local Dimming分區,更精細的分區要求多而小的發光源,高密Mini LED陣列是最優選擇。
 
從市場角度來看,隨著良率的提高Mini LED背光顯示的成本將以每年15-20%的幅度下降,將大比例替代現有的 LED 背光,成為大尺寸液晶背光顯示方案的主流選擇;預估2025年MiniLED背光芯片市場規模將達到14.3億美元,其中用于數字顯示的芯片產值將達到6.14億美元,其次為IT產品及TV顯示,產值均超過3億美金。
 
Mini LED為巨量轉移技術的集成提供了可能,結合N合1或COB封裝,提供了更高顯示密度的解決方案,P1.0以下的顯屏應用,Mini RGB芯片將逐漸占據主流。
華燦背光Mini LED技術
 
報告中,張奕介紹了當前華燦背光Mini LED關鍵技術的出光調節設計,其關鍵共性技術具有高可靠性、高亮度的倒裝芯片結構,高效鈍化層的制作,金屬連接層的平滑覆蓋,高可靠性的電極等特點。
 
華燦R/G/B Mini LED關鍵共性技術的Mura效應是COB封裝形式中常見的顯示異常;華燦通過特有的混編技術,可以消除COB應用情況下的Mura效應。
 
免錫膏封裝芯片方案,可以隨著芯片尺寸的持續減小,免錫膏方案將成為提高良率降低成本的關鍵;華燦可以將錫球直接制作在Mini LED 芯片電極上。
華燦Mini LED量產路線圖
 
Micro LED的外延技術關鍵涉及波長均勻性一致性、缺陷和Particle的控制、外延面積的有效利用。芯片技術關鍵涉及Sub微米級的工藝線寬控制、芯片側面漏電保護、襯底剝離技術
(批量芯片轉移)、陣列鍵合技術(陣列轉移鍵合)、Micro LED的光形與取光等。
 
華燦Micro LED的外延進展
 
報告中分享了華燦微米級工藝線寬控制、華燦Micro LED的巨量測試效果、華燦襯底激光剝離技術、紅光Micro LED效率提升進展、華燦Micro LED缺陷控制水平。
華燦Micro LED技術節點路線圖
LED微顯示技術對比
Mini LED背光技術挑戰
 
 
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