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南京大學(xué)王致遠(yuǎn):用于DUV和EUV探測(cè)的高性能SiC肖特基勢(shì)壘光電二極管

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2019-12-11 來(lái)源:中國(guó)半導(dǎo)體照明網(wǎng)瀏覽次數(shù):501
近日,由深圳市龍華區(qū)科技創(chuàng)新局特別支持,國(guó)家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟(CSA)、第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA)主辦,深圳第三代半導(dǎo)體研究院與北京麥肯橋新材料生產(chǎn)力促進(jìn)中心有限公司共同承辦的第十六屆中國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體照明論壇(SSLCHINA 2019)暨2019國(guó)際第三代半導(dǎo)體論壇(IFWS 2019)在深圳會(huì)展中心召開(kāi)。

期間,山西中科潞安紫外光電科技有限公司與中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司協(xié)辦的“固態(tài)紫外器件技術(shù)”分會(huì)如期召開(kāi)。分會(huì)重點(diǎn)關(guān)注以氮化鋁鎵、氮化鎵為代表的紫外發(fā)光材料,以碳化硅、氮化鎵為代表的紫外探測(cè)材料,高效量子結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及外延,以及發(fā)光二極管、激光器、光電探測(cè)器等核心器件的關(guān)鍵制備技術(shù)。
深紫外(DUV)和極深紫外(EUV)探測(cè)器在光刻、天文監(jiān)測(cè)以及國(guó)防預(yù)警等諸多領(lǐng)域具有非常廣闊的應(yīng)用前景。在適用于DUV和EUV探測(cè)的所有寬禁帶半導(dǎo)體材料中,碳化硅(SiC) 因其可見(jiàn)光盲、漏電流低和抗輻射性能好等優(yōu)良特性能而受到了廣泛的關(guān)注。此外,由于EUV光在半導(dǎo)體材料中的穿透深度非常淺,因此具有表面結(jié)的SiC肖特基勢(shì)壘光電二極管在該波段相較于其他結(jié)構(gòu)的器件具有更高的量子效率(QE)。
 
會(huì)上,南京大學(xué)的王致遠(yuǎn)做了《用于DUV和EUV探測(cè)的高性能SiC肖特基勢(shì)壘光電二極管》的報(bào)告,他在報(bào)告中介紹了他們課題組研制出來(lái)的一種特殊的SiC SBD,并用其設(shè)計(jì)并制作了高性能DUV&EUV探測(cè)器,明確了SiC材料在深紫外探測(cè)領(lǐng)域的技術(shù)和前景。
 
他認(rèn)為SiC肖特基勢(shì)壘光電二極管在DUV和EUV探測(cè)方面具有明顯的優(yōu)勢(shì)和發(fā)展?jié)摿?。表現(xiàn)在:1)全電極裝置具有極低泄漏、抗輻射能力強(qiáng)、穩(wěn)定性好的優(yōu)良性能;2)與全電極裝置相比,柵電極裝置在EUV波長(zhǎng)范圍內(nèi),特別是在100nm以上的波長(zhǎng)范圍內(nèi),具有優(yōu)越的檢測(cè)能力。3)最重要的是,該柵電極裝置可以在0V偏壓下工作,具有更廣泛的應(yīng)用前景。
 
當(dāng)然該技術(shù)仍然在研發(fā)階段,目前需要解決問(wèn)題仍然較多,目前主要解決的包括幾點(diǎn):1)進(jìn)一步優(yōu)化制備工藝條件,研制大型探測(cè)器部件和探測(cè)陣列;2)進(jìn)一步提高裝置的抗輻射性和溫度穩(wěn)定性。
王致遠(yuǎn)配圖1

王致遠(yuǎn)配圖2

王致遠(yuǎn)配圖3
 
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