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德國Instrument Systems optische Messtechnik GmbH Tobias STEINEL:用于μ-LED和OLED顯示器和晶圓的亞像素評估的成像光測量設備

放大字體  縮小字體 發布日期:2019-11-27 來源:中國半導體照明網瀏覽次數:425
      11月25-27日,由深圳市龍華區科技創新局特別支持,國家半導體照明工程研發及產業聯盟(CSA)、第三代半導體產業技術創新戰略聯盟(CASA)主辦,深圳第三代半導體研究院與北京麥肯橋新材料生產力促進中心有限公司共同承辦的第十六屆中國國際半導體照明論壇(SSLCHINA 2019)暨2019國際第三代半導體論壇(IFWS 2019)在深圳會展中心召開。 

11月26日上午,“Micro-LED與其他新型顯示技術”分會如期召開。本屆分會由山西中科潞安紫外光電科技有限公司、華燦光電股份有限公司、德國愛思強股份有限公司、北京北方華創微電子裝備有限公司協辦。

法國原子能委員會電子與信息技術實驗室研究主任Francois TEMPLIER,北京大學教授陳志忠,德國ALLOS Semiconductors首席技術官Atsushi NISHIKAWA,美國Lumiode, Inc.創立者兼總裁Vincent LEE,北方華創PVD事業部LED產品經理郭冰亮,和蓮光電科技股份有限公司董事長邰中和,南京大學電子科學與工程學院副院長、教授劉斌,德國Instrument Systems optische Messtechnik GmbH的Tobias STEINEL等來自中外的強勢力量聯袂帶來精彩報告。   

8 Tobias STEINEL    

德國Instrument Systems optische Messtechnik GmbH的Tobias STEINEL做了題為“用于μ-LED和OLED顯示器和晶圓的亞像素評估的成像光測量設備µ-LED市場預計將急劇增長”的主題報告,分享了µ-LED / OLED顯示測試在生產中的挑戰,µ-LED晶圓測試在生產中的挑戰,顯示器生產測試的解決方案,標準顯示測試,測試µ-LED晶圓(或小型顯示器),亞像素表征(µ-LED,OLED),缺陷像素評估,在線µ-LED(-OLED)測試等內容。

報告顯示,µ-LEDs可能是破壞性的顯示技術,µ-LED晶圓測試需要基于相機的測量概念,以實現合理的生產節拍時間。卓越的µ-LED技術需要高性能和極高分辨率的LMD才能進行快速生產測試,亞像素評估和校準需要復雜的算法和分析工具。

 

(內容根據現場資料整理,如有出入敬請諒解)


 
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