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【IFWS 2016】郭浩中:使用SL p-AlGaN和反射器改進UVC LED 的光提取

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2016-11-21 10:56   來源:中國半導體照明網(wǎng)  瀏覽次數(shù):540
   11月15日-17日,2016中國(北京)跨國技術轉移大會暨第三代半導體國際論壇(以下簡稱“跨國技術轉移大會”)在北京國際會議中心舉行,第十三屆中國國際半導體照明論壇并與之同期同地舉行。其中,11月17日上午舉行的第三代半導體與固態(tài)紫外器件技術分會專家陣容強大,看點十足。
 
  該分會主持人由中科院蘇州納米所研究員、博士生導師、納米測試中心主任,蘇州納維科技有限公司董事長,中組部國家千人計劃、國家杰出青年基金獲得者徐科和中科院半導體研究所所長助理、研究員張韻及美國佐治亞理工學院教授Russell DUPUIS共同擔任。
 
  半導體照明是第三代半導體技術所實現(xiàn)的第一個突破口,如今LED發(fā)光技術的進步現(xiàn)已突破傳統(tǒng)的照明概念,并已開拓、發(fā)展LED發(fā)光新技術領域。沿長波方向,已從藍光拓寬到綠光、黃光、紅光,發(fā)展“超越照明”,開拓在生物、農業(yè)、醫(yī)療、保健、航空、航天和通信等領域應用;沿短波方向,現(xiàn)已發(fā)展高效節(jié)能、環(huán)境友好、智能化的“紫光光源”,期望逐步取代電真空紫外光源,引領紫外技術的變革,開拓紫光應用廣闊領域。
 
  有數(shù)據(jù)顯示,紫外線LED應用于光固化市場產值2021年將達1.95億美元, 2020年紫外線LED光固化模組的滲透率將來到50~60%。紫外LED殺菌與凈化應用的市場產值2021年將達2.57億美元。
臺灣交通大學特聘教授郭浩中

臺灣交通大學特聘教授 郭浩中
 
  會上,來自臺灣交通大學特聘教授郭浩中分享了“使用SL p-AlGaN和反射器改進UVC LED 的光提取”研究報告。
 
  郭浩中教授致力于發(fā)展半導體發(fā)光二極管/雷射二極管(LEDs/LDs)以及三五族高速晶體管的材料成長與組件制作。郭教授就讀于美國伊利諾大學香檳分校期間,與Milton Feng教授共同研發(fā)了700 GHz以上的InP/InGaAs異質接面雙極性晶體管(HBT),其獨特的使用CBr4摻雜以及有機金屬分子束磊晶技術(MOMBE)獨步全球。郭教授也制作出臺灣第一顆10G GaAs面射型雷射(VCSEL),并在交通大學完成世界第一顆可室溫操作的電激發(fā)氮化鎵VCSEL,被Laser Focus World等國際著名雜志報導。
臺灣交通大學特聘教授 郭浩中

臺灣交通大學特聘教授 郭浩中
 
  郭教授也致力于開發(fā)高亮度、高效率的氮化鎵LED,并提出使用漸變鋁成分的電子阻擋層(GEBL)設計,成功的改善藍光LED的效率下降(Droop)問題。郭教授也提出創(chuàng)新的白光LED封裝方式,發(fā)展量子點封裝技術、可撓式LED以及UVLED的制程及封裝技術開發(fā)。郭教授于2012年獲頒美國光學工程學會會士(OSA Fellow)、英國工程技術學會會士(IET Fellow),2013年獲頒國際光學工程學會會士(SPIE Fellow),并于2015年獲頒國際電機電子工程師學會會士(IEEE Fellow)以及國際電機電子工程師學會-光電學門會士(IEEE Photonics Society Fellow),研究成果享譽國際,成果斐然。
 
  他在報告中指出,紫外光源由于其在食物加工、制革、殺菌、文檔查證、光療和植物生長等方面的應用,引起了人們的廣泛關注。特別是深紫外(DUV)光源技術非常重要,在生物醫(yī)療、消毒、水凈化等方面的應用潛力巨大,無汞紫外光源因其健康安全,發(fā)現(xiàn)和開發(fā)必不可少。
 
  其中,GaN基LED因其可調寬帶隙已迅速發(fā)展成為固態(tài)照明光源,從紅外到紫外提供發(fā)射波長。近年來, GaN DUV LED 呈現(xiàn)取代汞燈的新可能性,但在發(fā)射波長小于380 nm時,由于緩沖層和襯底的內量子效率低和發(fā)射光吸收強,發(fā)射效率明顯降低。
 
  為了進一步提高光提取效率,金屬反射鏡因為其反射率高和電流分布好被廣泛應用于倒裝芯片藍光LED。然而,金屬鏡在深紫外波段獲得高反射率非常困難。
 
  郭浩中表示,在這項研究中,我們提出了一種新的深紫外LED倒裝芯片(280 nm and 310 nm),其高反射率鏡(~89%)與介質分布 Bragg反射相關。此外,DUV LED生長在AlN模板以克服AlGaN中間層和藍寶石之間較大的晶格失配,導致優(yōu)質晶體和襯底吸收減少。通過精心安排層結構,我們可以提高發(fā)射效率和增加DUV LED的光輸出功率。最后實現(xiàn)DUV LEDs的7% EQE@310 nm和5% EQE@280nm,且優(yōu)化封裝。
 
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