日前，因研制出高亮度藍光LED而榮獲2014年度諾貝爾物理學獎的中村修二公開表示，希望能與老東家日亞化學改善關系，忘記過去的不愉快。“我們雙方都存在誤會，我不希望把這場爭吵帶進墳墓。”這位60歲的日裔美籍科學家表示。

我國企業如何吸取教訓?

我國對于科學家的職務發明和非職務發明，也同樣缺乏明確的界限。反觀美國企業，與員工事先簽訂合同，確定利益分成，這非常值得我們借鑒。

中村修二口中的“不愉快”和“爭吵”，指的是他與老東家日亞化學之間，圍繞其藍光LED發明專利長達20年之久的糾紛。當年，盡管在日亞受到各種懷疑和排擠，中村還是排除萬難，以“憤怒”為動力完成了藍光LED的研制。日亞隨即以公司的名義申請了專利，開始大量生產產品，并從中獲得了近2000億日元收益，從一家默默無聞的小公司搖身一變成為世界最大的LED公司。而中村僅僅獲得了兩萬日元(約合人民幣1042萬元)的獎金。

重壓之下，中村選擇離開日亞，前往美國加州大學圣巴巴拉分校任職。但是由于拒絕簽署“3年內不再從事藍光LED的基礎技術研究”的合同，在日亞工作了20年的中村修二沒能領到退職金。之后，日亞甚至追到美國，繼續要求中村簽署該合同。再次遭拒后，日亞以泄露企業秘密為由，將中村告上法庭。

中村忍無可忍，向日亞提起反訴，要求其支付發明補償金。其間，中村曾勝訴，法院判決日亞應支付中村補償金200億日元。但是最終，在日亞上訴后，這場歷時5年的專利訴訟以日亞向中村支付8.4億日元(約合人民幣4375萬元)達成庭外和解。

“為此，中村一再詬病日本的科研環境和專利制度。”工業和信息化部軟件與集成電路促進中心知識產權處專利分析師羅佳秀在接受記者采訪時表示，“而我國企業應從中吸取教訓。”

她表示，因為該發明不屬于職務發明，在研究遇挫時，日亞化學還一度中止了中村修二的研究。日本專利法第35條規定：“專利屬于發明者個人。如由于聘用合同等契約方面的原因而必須轉讓給企業的話，企業必須支付相當的報酬。”“這樣顯然缺乏可操作性。同樣，長期以來，我國對于科學家的職務發明和非職務發明，也同樣缺乏明確的界限。反觀美國企業，與員工事先簽訂合同，確定利益分成，這非常值得我們借鑒。”她說。

對于國內企業如何避免類似的專利糾紛，羅佳秀建議，首先，要盡早解決技術發明權的歸屬問題;其次，要做好對核心員工的激勵，在不損害企業利益的前提下，設法采取各種手段來滿足核心技術員工的各類需求，達到留住這些員工的目的;最后，在核心技術的開發模式方面，要設法促進知識傳遞，避免知識掌握在少數人手中。

專利壁壘如何突破?

應該在充分考慮技術本身的性質、市場價值、司法途徑的救濟成本之后，再決定是以專利、商業秘密，還是兩者結合的手段來對自身技術進行保護。

以較小的代價取得了中村修二在職參與的191件專利以及未提出專利申請而為公司珍藏的其他技術后，日亞化學憑借在藍光LED及白光LED專利技術方面的霸主地位，掀起了瘋狂的專利戰浪潮，成為LED產業最積極的訴訟發起者。

在一場血雨腥風后，目前，幾大國際巨頭已經通過專利交叉許可結盟，對外壟斷。那么，國內LED企業應該如何面對森嚴的專利壁壘，順利發展壯大呢?

歐普照明總法律顧問余延華告訴記者，首先還是要加強企業創新，持續積累高質量的知識產權組合，這是一切專利攻防戰的根基;其次，在產品開發流程中，要做好專利風險分析及規避設計;再次，面對訴訟時，要擺正心態，積極防御，不戀戰也不畏戰;最后，還要做好競爭對手產品專利侵權分析。

自身足夠強大，才有機會和國際巨頭強強聯合，揚長避短。“我們一直致力于加強專利申請，技術領域涵蓋LED外延、芯片、電極設計以及封裝、應用等，專利布局比較均衡。”我國LED龍頭企業三安光電綜合管理部副經理邵小娟告訴記者，“為了打開海外市場，三安光電收購美國Luminus、參股臺灣璨圓、攜手SSC成立子公司、購買夏普發明專利等，在專利布局方面投入了大量精力。希望能夠盡快打破國外企業的專利壁壘，扭轉我國LED產業在專利方面的被動局面。”

對于LED設備的知識產權戰略，國內首臺MOCVD制造商中晟光電董事長陳愛華表示，高端裝備的知識產權保護有其自身的特點，要進行靈活、有效的管理，而不是一味強調數量;對已用于和將用于產品的各項核心技術必須實施周密、有效的知識產權保護，專利申請的國度、不同層次和范圍的專利布局、發明專利和實用新型專利的結合及專利申請時間的配合都要考慮到。“對于敏感的核心技術知識產權的保護，必須謹慎處理。”他強調。

“并不是說研發一取得成功，就一定要急于申請專利保護。”羅佳秀表示，“當前，國內企業技術水平和專利意識不斷提高，與國外先進企業之間的差距也在不斷縮小，更應該在充分考慮技術本身的性質、市場價值、司法途徑的救濟成本之后，再決定是以專利、商業秘密，還是兩者結合的手段來對自身技術進行保護。”

另外，也不是說面對已有的專利就毫無機會。“在別人現有的專利中，也可以汲取創新點，比方說技術空缺、專利布局空隙、下位概念、結構替代(變形)、組分變化、工藝改進、技術移植等等。”上海硅知識產權交易中心總監張軍告訴記者，“具體來說，如果某款LED專利對散熱器形狀、材質、供電電路類型等沒有具體的要求，就為后續申請人留下了空間。所以說，對于后來者而言，選取好專利的‘縫隙’進行布局，也是達成交叉許可的好機會。”