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日本開發(fā)出2英寸SCAM晶體 有望提升芯片亮度

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2014-08-12 來源:日經(jīng)技術(shù)在線瀏覽次數(shù):25

日本福田結(jié)晶技術(shù)研究所成功試制出了口徑為50mm(2英寸)的ScAlMgO4(SCAM)晶體。設(shè)想用于藍色LED元件及藍紫色半導(dǎo)體激光器等GaN類發(fā)光元件的基板。與制造藍色LED元件的基板大多使用的藍寶石相比,SCAM更適合減少GaN類半導(dǎo)體的結(jié)晶缺陷,因此有望提高發(fā)光元件的亮度。據(jù)該研究所介紹,日本東北大學(xué)金屬材料研究所松岡隆志教授的研究小組利用試制品層疊GaN類半導(dǎo)體設(shè)計了LED,證實了該材料的有用性。

SCAM的特點是與GaN的晶格失配度僅1.8%,不容易產(chǎn)生晶格位錯這種結(jié)晶缺陷。雖然以前業(yè)內(nèi)認(rèn)為很難制作SCAM晶體,但福田結(jié)晶技術(shù)研究所采用CZ法試制成功了2英寸的高品質(zhì)SCAM晶體。據(jù)該研究所介紹,通過改善晶體生長的條件和晶體生長爐的結(jié)構(gòu),提高了結(jié)晶品質(zhì)。該研究所劈開試制出的SCAM晶體,利用X射線衍射法評估了其C面,結(jié)果發(fā)現(xiàn)其半幅值為12.9秒,結(jié)晶品質(zhì)跟Si的完全結(jié)晶相當(dāng)。

另外,該研究所不用切割和研磨加工工藝,而是利用SCAM晶體塊通過劈開加工做成了晶圓。此舉可降低晶圓的成本。利用有機金屬化學(xué)氣相沉積法使GaN薄膜在1040℃下垂直于SCAM晶體的劈開面生長,結(jié)果獲得了鏡面的低位錯晶體。這也是一大成果。

福田結(jié)晶技術(shù)研究所今后將設(shè)法繼續(xù)增大SCAM晶體的口徑,還將對其進行商業(yè)化運作。福田結(jié)晶技術(shù)研究所將于2015年春季開始銷售2英寸的SCAM基板。

 
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