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外延生長|磊晶(epitaxial growth)

放大字體  縮小字體 發布日期:2014-01-13 來源:阿拉丁瀏覽次數:142

外延生長|磊晶的概念

       在合適的襯底基片上生長結晶軸相互一致的結晶層的技術。用于制作沒有雜質和缺陷的結晶層。包括在基片上與氣體發生反應以積累結晶層的VPE(氣相生長)法、以及與溶液相互接觸以生長結晶相的LPE(液相生長)法等。

主流技術

       藍色LED、白色LED以及藍紫色半導體激光器等GaN類發光元件一般采用VPE法之一的MOCVD(metal Organic Chemical Vapor Deposition)法進行生產。MOCVD采用有機金屬氣體等作為原料。藍色LED在藍寶石基片和SiC基片上,藍紫色半導體激光器在GaN基片上使用MOCVD裝置使得GaN類半導體層形成外延生長。

“404專利”的內容

       提出專利權歸屬問題而進行訴訟的“404專利”,是將原料氣體封入藍寶石底板表面附近的方式之一。在生長GaN類半導體膜的底板(藍寶石底板等)表面沿水平方向通入原料氣體,同時為了將原料氣體固定在底板表面,沿垂直方向向底板表面通入非活性氣體。(根據專利公報上刊登的圖制作)

       中村修二就其在日亞化學工業工作時所發明專利的“正當價格”與日亞化學工業展開的訴訟中所涉及的GaN類發光元件專利(專利第2628404號,以下稱404專利)就是外延生長GaN類半導體層技術的相關專利。404專利是與在藍寶石基片表面附近封入原料氣體的技術。其特點是,在生長GaN類半導體膜的基片(藍寶石基片等)表面沿水平方向通入原料氣體,同時為了將原料氣體固定在基片表面,還沿垂直方向向基片表面通入非活性氣體。

 
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